Pó de lapidação de óxido de alumínio chapeado
O pó de lapidação de óxido de alumínio banhado é feito de pó de alumina industrial de alta qualidade como matéria-prima e processado por um processo de produção especial. A forma de cristal do pó de polimento de alumina produzido é hexagonal plana como a forma tabular, por isso é chamada de alumina plaquetária ou alumina tabular.
A pureza da alumina da placa de alumina é superior a 99% e possui características de resistência ao calor, resistência à corrosão ácida e alcalina e alta dureza. Diferente das partículas esféricas abrasivas tradicionais, a superfície inferior da alumina plana é plana e as partículas se encaixam na superfície da peça de trabalho durante a retificação, o que produz um efeito de retificação deslizante, o que evita que os cantos afiados das partículas arranhem a superfície de a peça de trabalho. Por outro lado, a alumina da placa na moagem, a pressão de moagem é distribuída uniformemente na superfície das partículas, as partículas não são facilmente quebradas e a resistência ao desgaste é melhorada, melhorando assim a eficiência da moagem e o acabamento da superfície.
Para materiais semicondutores, como wafers de silício semicondutores, a aplicação de placa de óxido de alumínio pode reduzir o tempo de moagem, melhorar muito a eficiência da moagem, reduzir a perda da retificadora, economizar mão-de-obra e custos de moagem e aumentar a taxa de aprovação da moagem. A qualidade está próxima de marcas estrangeiras conhecidas.
A eficiência do trabalho de retificação do bulbo de vidro do tubo de imagem é aumentada em 3-5 vezes;
A taxa de produto qualificado é aumentada em 10-15%, e a taxa de produto qualificado de bolachas semicondutoras atinge mais de 99%;
O consumo de moagem é 40-40% menor do que o pó de polimento de alumina comum;
Pó de lapidação de óxido de alumínio banhado Composição química
Químico | Valor da garantia | Valor típico |
Al2O3 | ≥99,0% | 99,36% |
SiO2 | <0,2% | 0,017% |
Fe2O3 | <0,1% | 0,03% |
Na2O | <0,6% | 0,35% |
Pó de lapidação de óxido de alumínio banhado Propriedades físicas
Material | α-Al2O3 |
Cor | Branco |
Gravidade Específica | ≥3,9g/cm3 |
Dureza de Mohs | 9,0 |
Pó de lapidação de óxido de alumínio banhado Tamanhos disponíveis
Tipo | D3(um) | D50(um) | D94 (um) |
HXTA45 | 50,5-56,2 | 33-38,5 | 20,7-24,5 |
HXTA40 | 39-44,6 | 27,7-31,7 | 18-20 |
HXTA35 | 35,4-39,8 | 23.8-27.2 | 15-17 |
HXTA30 | 28.1-32.3 | 19.2-22.3 | 13.4-15.6 |
HXTA25 | 24.4-28.2 | 16.1-18.7 | 9.6-11.2 |
HXTA20 | 20.9-24.1 | 13.1-15.3 | 8.2-9.8 |
HXTA15 | 14.8-17.2 | 9.4-11 | 5,8-6,8 |
HXTA12 | 11,8-13,8 | 7,6-8,8 | 4,5-5,3 |
HXTA09 | 8,9-10,5 | 5,9-6,9 | 3.3-3.9 |
HXTA05 | 6,6-7,8 | 4.3-5.1 | 2.55-3.05 |
HXTA03 | 4,8-5,6 | 2.8-3.4 | 1.5-2.1 |
Pó de lapidação de óxido de alumínio banhado Aplicações do produto
1) Indústria eletrônica: retificação e polimento de wafers de silício monocristalino semicondutor, cristais de quartzo, semicondutores compostos (gálio cristalino, fosfatização nano).
2) Indústria de vidro: moagem e processamento de cristal, vidro de quartzo, tela de casca de vidro de cinescópio, vidro óptico, substrato de vidro de tela de cristal líquido (LCD) e cristal de quartzo.
3) Indústria de revestimentos: revestimentos especiais e cargas para pulverização de plasma.
4) Indústria de processamento de metal e cerâmica: materiais cerâmicos de precisão, matérias-primas cerâmicas sinterizadas, revestimentos de alta temperatura de alta qualidade, etc.
Pacote de pó de lapidação de óxido de alumínio banhado:
20kgs/caixa, 1MT/Palete
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