Pó de polimento de óxido de alumínio de 9 mícrons
O pó de polimento de óxido de alumínio de 9 mícrons é feito de pó de alumina industrial de alta qualidade como matéria-prima e processado por um processo de produção especial. A forma de cristal do pó de polimento de alumina produzido é hexagonal plana como uma forma tabular, por isso é chamada de Alumina Plaquetária ou Alumina Tabular.
A pureza da alumina da placa de alumina é superior a 99%, e tem as características de resistência ao calor, resistência à corrosão ácida e alcalina e alta dureza. Diferente das partículas esféricas abrasivas tradicionais, a superfície inferior da alumina plana é plana, e as partículas se encaixam na superfície da peça durante a retificação, o que produz um efeito de retificação deslizante, que evita que os cantos afiados das partículas risquem a superfície da peça. a peça de trabalho. Por outro lado, a alumina da placa na moagem, a pressão de moagem é distribuída uniformemente na superfície das partículas, as partículas não são facilmente quebradas e a resistência ao desgaste é melhorada, melhorando assim a eficiência da moagem e o acabamento da superfície.
Para materiais semicondutores, como pastilhas de silício semicondutoras, a aplicação de óxido de alumínio de placa pode reduzir o tempo de moagem, melhorar muito a eficiência de moagem, reduzir a perda da máquina de moagem, economizar mão de obra e custos de moagem e aumentar a taxa de passagem de moagem. A qualidade está próxima de marcas estrangeiras bem conhecidas.
A eficiência de trabalho da moagem do bulbo de vidro do tubo de imagem é aumentada em 3-5 vezes;
A taxa de produto qualificado é aumentada em 10-15%, e a taxa de produto qualificado de wafers semicondutores atinge mais de 99%;
O consumo de moagem é 40-40% menor do que o pó de polimento de alumina comum;
Pó de polimento de óxido de alumínio de 9 mícrons Composição química
| Químico | Valor da Garantia | Valor típico |
| Al2O3 | ≥99,0% | 99,36% |
| SiO2 | <0,2% | 0,017% |
| Fe2O3 | <0,1% | 0,03% |
| Na2O | <0,6% | 0,35% |
Pó de lapidação de óxido de alumínio chapeado Propriedades físicas
| Material | α-Al2O3 |
| Cor | Branco |
| Gravidade Específica | ≥3,9g/cm3 |
| Dureza de Mohs | 9,0 |
Pó de lapidação de óxido de alumínio chapeado Tamanhos disponíveis
| Modelo | D3(um) | D50（um） | D94 (um) |
| HXTA45 | 50,5-56,2 | 33-38,5 | 20,7-24,5 |
| HXTA40 | 39-44,6 | 27,7-31,7 | 18-20 |
| HXTA35 | 35,4-39,8 | 23,8-27,2 | 15-17 |
| HXTA30 | 28,1-32,3 | 19,2-22,3 | 13,4-15,6 |
| HXTA25 | 24,4-28,2 | 16,1-18,7 | 9.6-11.2 |
| HXTA20 | 20,9-24,1 | 13.1-15.3 | 8,2-9,8 |
| HXTA15 | 14,8-17,2 | 9.4-11 | 5,8-6,8 |
| HXTA12 | 11,8-13,8 | 7,6-8,8 | 4,5-5,3 |
| HXTA09 | 8,9-10,5 | 5,9-6,9 | 3.3-3.9 |
| HXTA05 | 6,6-7,8 | 4.3-5.1 | 2,55-3,05 |
| HXTA03 | 4,8-5,6 | 2,8-3,4 | 1,5-2,1 |
Aplicações de pó de polimento de óxido de alumínio de 9 mícrons
1) Indústria eletrônica: moagem e polimento de pastilhas de silício monocristalino semicondutores, cristais de quartzo e semicondutores compostos (gálio cristalino, nano fosfatização).
2) Indústria de vidro: moagem e processamento de cristal, vidro de quartzo, tela de concha de vidro cinescópio, vidro óptico, substrato de vidro de display de cristal líquido (LCD) e cristal de quartzo.
3) Indústria de revestimentos: revestimentos e cargas especiais para pulverização de plasma.
4) indústria de processamento de metal e cerâmica: materiais cerâmicos de precisão, matérias-primas cerâmicas sinterizadas, revestimentos de alta temperatura de alta qualidade, etc.
Pó de polimento de óxido de alumínio de 9 mícrons Pacote:
20kgs/caixa, 1MT/Palete
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